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PCB沉金工藝流程簡(jiǎn)介沉金

  • 發(fā)布時(shí)間:2025-05-27 17:03:27
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以下是PCB沉金(化學(xué)鍍鎳金,ENIG)工藝中沉金步驟的詳細(xì)說(shuō)明,包含化學(xué)鍍鎳與化學(xué)沉金兩個(gè)核心階段:


沉金工藝流程框架

前處理 → 活化 → 化學(xué)鍍鎳 → 化學(xué)沉金 → 后處理


1. 化學(xué)鍍鎳(Electroless Nickel Plating)

作用

  • 保護(hù)銅基材:鎳層隔絕銅與空氣接觸,防止氧化。

  • 提供金層基底:鎳的平整表面為后續(xù)沉金提供均勻沉積基礎(chǔ)。

  • 增強(qiáng)焊接性:鎳層可緩解銅與焊料之間的金屬間化合物(IMC)生長(zhǎng)。

操作參數(shù)

  • 藥液成分

    • 主鹽:硫酸鎳(NiSO?)

    • 還原劑:次磷酸鈉(NaH?PO?)

    • 絡(luò)合劑:檸檬酸、乳酸(調(diào)節(jié)沉積速率和鍍層磷含量)。

    • 穩(wěn)定劑:硫脲、鉛鹽(抑制副反應(yīng))。

  • 關(guān)鍵參數(shù)

    • 溫度:85-95℃(需精確控溫±1℃)。

    • pH值:4.5-5.5(通過(guò)氨水調(diào)節(jié))。

    • 時(shí)間:15-30分鐘(鎳層厚度3-6 μm)。

    • 磷含量:7-11%(影響鍍層耐腐蝕性和硬度)。

反應(yīng)機(jī)理

化學(xué)鍍鎳為自催化還原反應(yīng)
Ni2++H2PO2−+H2O→催化Ni↓+H2PO3−+2H+Ni2++H2?PO2−?+H2?O催化?Ni↓+H2?PO3−?+2H+

注意事項(xiàng)

  1. 槽液維護(hù)

    • 定期分析鎳離子、次磷酸鹽濃度,補(bǔ)充消耗成分。

    • 過(guò)濾循環(huán)(1-5 μm濾芯),去除顆粒雜質(zhì)。

  2. 厚度控制

    • 通過(guò)X射線測(cè)厚儀(XRF)或切片法監(jiān)控鎳層均勻性。

  3. 黑盤(Black Pad)預(yù)防

    • 避免磷含量過(guò)高(>11%)或鍍液污染(如硫、有機(jī)物)。


2. 化學(xué)沉金(Immersion Gold Plating)

作用

  • 抗氧化:金層保護(hù)鎳層免受氧化,確保長(zhǎng)期可焊性。

  • 表面平整:填充鎳層微觀孔隙,提升焊盤平整度。

  • 鍵合性能:金層適用于Wire Bonding工藝。

操作參數(shù)

  • 藥液成分

    • 金鹽:氰化亞金鉀(KAu(CN)?,含金量0.5-1.5 g/L)。

    • 絡(luò)合劑:EDTA、檸檬酸(穩(wěn)定金離子)。

    • pH調(diào)節(jié)劑:氫氧化鉀(KOH,pH 4.5-6.0)。

  • 關(guān)鍵參數(shù)

    • 溫度:80-90℃。

    • 時(shí)間:5-15分鐘(金層厚度0.05-0.15 μm)。

    • 置換反應(yīng):金通過(guò)置換鎳沉積,反應(yīng)終止于鎳表面完全覆蓋。

反應(yīng)機(jī)理

沉金為置換反應(yīng)(無(wú)外部電流):
2Au++Ni→2Au↓+Ni2+2Au++Ni→2Au↓+Ni2+

注意事項(xiàng)

  1. 金層厚度控制

    • 過(guò)?。ǎ?.05 μm):抗氧化性差;

    • 過(guò)厚(>0.2 μm):成本高,易導(dǎo)致焊點(diǎn)脆化。

  2. 藥液穩(wěn)定性

    • 避免鎳離子積累(定期更換部分藥液或使用離子交換樹脂)。

  3. 潤(rùn)濕性

    • 添加潤(rùn)濕劑(如聚乙二醇)確保高密度板孔內(nèi)金層覆蓋。


后處理

  1. 水洗

    • 采用多級(jí)逆流DI水清洗,徹底去除藥液殘留。

  2. 干燥

    • 熱風(fēng)烘干(60-80℃),避免水漬殘留。

  3. 檢驗(yàn)

    • 金層外觀:均勻金黃色,無(wú)發(fā)黑、發(fā)白或露鎳。

    • 厚度測(cè)試:XRF或切片法。

    • 附著力測(cè)試:膠帶剝離試驗(yàn)(IPC-TM-650標(biāo)準(zhǔn))。


常見問題與對(duì)策

問題現(xiàn)象 可能原因 解決方案
金層發(fā)白 鎳層磷含量過(guò)高或沉金液pH異常 調(diào)整鎳液磷含量,校準(zhǔn)沉金液pH值
金層剝離 鎳層氧化或活化不良 優(yōu)化活化工藝,縮短鎳至沉金時(shí)間
焊盤拒焊 金層過(guò)薄或鎳層污染 增加沉金時(shí)間,加強(qiáng)前處理清洗
孔內(nèi)無(wú)金層 藥液潤(rùn)濕性差或氣泡滯留 添加潤(rùn)濕劑,改進(jìn)槽液循環(huán)方式

關(guān)鍵控制點(diǎn)

  1. 鎳層質(zhì)量:磷含量、厚度、致密性。

  2. 沉金液活性:金離子濃度、pH、溫度。

  3. 潔凈度:全程DI水清洗,避免顆粒污染。


總結(jié)

沉金工藝通過(guò)化學(xué)鍍鎳置換沉金的結(jié)合,為PCB提供高可靠性的表面處理。其核心在于:

  • 鎳層:作為功能性基底,需控制磷含量與致密性;

  • 金層:作為保護(hù)與焊接層,需精準(zhǔn)管理厚度與均勻性。
    通過(guò)嚴(yán)格的參數(shù)監(jiān)控(溫度、pH、濃度)和定期維護(hù)(藥液分析、設(shè)備校準(zhǔn)),可確保沉金工藝的穩(wěn)定性,滿足高密度互聯(lián)(HDI)和5G高頻PCB的嚴(yán)苛要求。

THE END
PCB計(jì)價(jià)

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